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鈦及鈦合金表面強(qiáng)化技術(shù)

[ 信息發(fā)布:本站 | 發(fā)布時(shí)間:2018-04-10 00:00:00 | 瀏覽:0 ]

鈦或鈦合金部件很難引起金屬過敏性,所以近年來以適用于人體的金屬部件正在引起注意,而且也越來越廣泛地用于以鐘表、眼鏡、珠寶飾品為代表的裝飾品上。但是需要指出鈦或鈦合金部件的問題是,因表面硬度低而易于劃傷,長(zhǎng)期使用過程中外觀質(zhì)量逐漸下降。為了解決這個(gè)問題,人們做了鈦或鈦合金部件的各種表面硬化處理試驗(yàn)。

主要分為

1、金屬部件表面

濕式處理法——電鍍;

干式處理法——真空沉積、等離子沉積。

特點(diǎn):鈦或鈦合金部件與硬質(zhì)膜之間附著性低,而且硬質(zhì)膜容易剝離。

1.1電鍍:

利用電解原理在某些金屬表面上鍍上一薄層其它金屬或合金的過程,起到防止金屬氧化(如銹蝕),提高耐磨性、導(dǎo)電性、反光性、抗腐蝕性(硫酸銅等)及增進(jìn)美觀等作用。

鈦合金的電鍍工藝:脫脂-噴砂-酸洗-活化-電鍍-熱處理。

1.2真空沉積:

真空沉積技術(shù)是真空鍍膜。真空氣相沉積是利用熱蒸發(fā)或輝光放電、弧光放電等物理過程,在基材表面沉積所需涂層的技術(shù)。它包括真空蒸發(fā)鍍膜、離子鍍膜和濺射。

1.2.1真空蒸發(fā)鍍膜

在真空室中,加熱蒸發(fā)容器中待形成薄膜的原材料,使其原子或分子從表面氣化逸出,形成蒸汽流,入射到固體表面,凝結(jié)形成固態(tài)薄膜的方法。


1.2.2離子鍍

離子鍍表面強(qiáng)化技術(shù)是利用低壓放電技術(shù),使沉積物離子化并轟擊沉積到金屬表面,提高其表面強(qiáng)度。經(jīng)該工藝技術(shù)進(jìn)行表面強(qiáng)化處理的齒輪刀具、鉆頭等工模具的使用壽命可提高數(shù)倍至數(shù)十倍。

1.2.3濺射鍍膜

1)對(duì)于任何待鍍材料,只要能做成靶材,就可以實(shí)現(xiàn)濺射;

2)濺射所得的薄膜與襯底結(jié)合較好;

3)濺射所得的薄膜純度高,致密性好;

4)重復(fù)性好,厚度可控,大面積均勻。

1.3等離子沉積

噴涂材料范圍廣,能噴涂難熔材料,制備難熔金屬、陶瓷、金屬陶瓷復(fù)合材料等涂層,以及其他一些特殊功能的涂層。涂層結(jié)合強(qiáng)度高,氣孔率低,涂層質(zhì)量高,可以較精細(xì)地控制工藝參數(shù),制備精細(xì)涂層。用于質(zhì)量要求高的耐蝕、耐磨、隔熱、絕緣、抗高溫和特殊功能涂層。


2、對(duì)部件本身進(jìn)行硬化處理

離子注入法、離子氮化法、氣體氮化法、滲碳法等。

特點(diǎn):不必?fù)?dān)心硬質(zhì)膜剝離,但處理時(shí)間長(zhǎng)且生產(chǎn)率低。而且由于處理溫度高,部件表面結(jié)晶顆粒有粗大化趨勢(shì),缺點(diǎn)是使表面變得粗糙,外觀質(zhì)量低。此外還應(yīng)當(dāng)指出的問題是很難得到能夠延伸到距表面深處區(qū)域內(nèi)的硬化層,使用過程中一遇有劃傷就會(huì)使產(chǎn)品外觀質(zhì)量下降。

2.1離子注入法

1)損傷強(qiáng)化:具有高能量的離子注入金屬表面后,將和基體金屬原子發(fā)生碰撞,是基體晶格大量損傷。摻雜原子本身及摻雜過程中所產(chǎn)生的缺陷,對(duì)位錯(cuò)運(yùn)動(dòng)起“釘扎”作用而把該區(qū)域強(qiáng)化;

2)注入摻雜強(qiáng)化:像NB等元素注入金屬后,會(huì)與金屬形成氮化物或硼化物,這些物質(zhì)呈星點(diǎn)狀嵌于材料中,構(gòu)成硬質(zhì)合金彌散相,使基體強(qiáng)化;

3)噴丸強(qiáng)化:高速離子轟擊基體表面,使表面成為壓縮狀態(tài)。這種壓縮應(yīng)力能起到填實(shí)表面裂紋和降低微粒從表面剝落的作用,從而提高抗磨損能力;


4)增強(qiáng)氧化膜,提高潤(rùn)滑性:離子注入會(huì)促使粘附性表面氧化物的生長(zhǎng),該類氧化膜可提高潤(rùn)滑性。

2.2離子氮化法

離子氮化又叫“輝光離子氮化”是最近起來的一種熱處理工藝,它具有生產(chǎn)周期短,零件表面硬度高,能控制氮化層脆性等優(yōu)點(diǎn)。因而,近幾年來國(guó)內(nèi)發(fā)展迅速,使用范圍很廣。

特點(diǎn):1表面加熱速度快,可縮短加熱及冷卻時(shí)間,到十分之一至十二分之一。而且除處理表面加熱外其余部分均處在低溫(100℃左右)狀態(tài),既節(jié)約了加熱功率又減少零件的變形。2擴(kuò)散過程快,在高壓電場(chǎng)作用下,由于氮化原子的運(yùn)動(dòng)速度比氣體氮化快許多倍,滲入速度更快,一般只需要3~10h。3氮化層韌性好,具有高抗疲勞和高抗磨性能,氮化層脆性白色ε相(Fe2N)控制在00.2mm范圍,從而免去氮化零件的磨削加工。
表面硬度高達(dá)HV900(HRC64),氮化層深度可掌握在0.09~

0.87mm

2.3氣體氮化法

氣體氮化將工件置於爐內(nèi),NH3氣直接輸進(jìn)500

550℃的氮化爐內(nèi),保持20100小時(shí),使NH3氣分解為原子狀態(tài)的(N)氣與(H)氣而進(jìn)行滲氮處理,硬化層性質(zhì)極硬又極脆,NH3氣體氮化,因?yàn)闀r(shí)間長(zhǎng)表面粗糙,硬而較脆不易研磨,且時(shí)間長(zhǎng)不經(jīng)濟(jì)。

2.4滲碳法

2.4.1固體滲碳法

優(yōu)點(diǎn):a)設(shè)備費(fèi)便宜,操作簡(jiǎn)單,不需高度技術(shù)。(b)加熱用熱源,可用電氣、瓦斯、燃料油。(c)大小工件均適,尤其對(duì)大形或需原滲碳層者有利。(d)適合多種少量生產(chǎn)。

缺點(diǎn):(a)滲碳深度及表面碳濃度不易正確調(diào)節(jié),有過剩滲碳的傾向。處理件變形大。(b)滲碳終了時(shí),不易直接淬火,需再加熱。(c)作業(yè)環(huán)境不良,作業(yè)人員多。

2.4.2液體滲碳法:

優(yōu)點(diǎn):(a)適中小量生產(chǎn)。設(shè)備費(fèi)便宜。不需高度技術(shù)。(b)容易均熱、急速加熱,可直接淬火。(c)適小件、薄滲碳層處理件。(d)滲碳均勻,表面光輝狀態(tài)。

缺點(diǎn):(a)不適于大形處理件的深滲碳。(b)鹽浴組成易變動(dòng),管理上麻煩。(c)有毒、排氣或公害問題應(yīng)有對(duì)策。(d)處理后,表面附著鹽類不易洗凈,易生銹。(e)難以防止?jié)B碳。有噴濺危險(xiǎn)。

2.4.3氣體滲碳法

優(yōu)點(diǎn):(a)適于大量生產(chǎn)。(b)表面碳濃度可以調(diào)節(jié)。(c)瓦斯流量、溫度、時(shí)間容易自動(dòng)化,容易管理。

缺點(diǎn):(a)設(shè)備費(fèi)昂貴。(b)處理量少時(shí)成本高。(c)需要專門作業(yè)知識(shí)。

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